Particolari:
La lucidatura meccanica chimica (CMP) aiuta le superfici regolari della cialda, una parte importante di produzione di VLSI. Il condizionamento è Essenziale per assicurare la molatura stabile del CMP. Il diamante di Sanchao offre vari condizionatori del CMP per essere adatte alle figure ed alle specifiche varie della cialda.  

Caratteristiche:
Una struttura di strato abrasiva ottimizzata del grano che segue la deformazione elastica di un rilievo fa funzionare gli abrasivi efficientemente e fornisce la vita più Lunga.  

Applicazione:
Condizionamento dei tamponi a cuscinetti per lucidare utilizzati per la spianatura (CMP) delle pellicole metalliche e delle pellicole d'isolamento nel processo di LSI a semiconduttore.